硅溶膠拋光液廣泛用于各種材料的納米拋光。如：不銹鋼、鋁合金、復(fù)合水晶、光學(xué)器件等表面拋光。

　　在拋光過(guò)程中，影響拋光過(guò)程的主要因素如下：

　　1、溫度：隨著溫度的升高，拋光液的化學(xué)反應(yīng)能力增強(qiáng)，拋光速度加快。但溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致拋光液揮發(fā)，加速化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致表面腐蝕嚴(yán)重，造成拋光效果不均，拋光質(zhì)量下降。

　　2、ph：拋光液的ph值越高，堿性越強(qiáng)，反應(yīng)速度越快。但ph對(duì)拋光面的蝕刻、磨料的分解和溶解、拋光液的穩(wěn)定性有很大影響。，從而影響材料去除率和表面質(zhì)量，因此應(yīng)嚴(yán)格控制。

　　3、壓力：一般來(lái)說(shuō)，壓力越高，拋光速度越快。但是，如果壓力過(guò)高，拋光速度會(huì)略有下降。原因是壓力過(guò)大會(huì)降低拋光墊攜帶拋光液的能力。另外，壓力過(guò)大也容易造成碎片化。

　　4、速度：提高速度會(huì)提高拋光率。但高速會(huì)導(dǎo)致拋光液在拋光墊上分布不均，影響拋光質(zhì)量。

　　5、拋光液濃度：當(dāng)拋光液濃度增加時(shí)，去除率增加，但當(dāng)磨粒濃度超過(guò)一定值時(shí)，材料去除率將停止增加并保持恒定值。這種現(xiàn)象稱為去飽和。此外，如果濃度過(guò)高，表面缺陷（如劃痕）可能會(huì)增加，從而影響表面質(zhì)量。

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